電漿火炬

在燃燒、分解及熔融的用途上所使用的高溫電漿科技，可分為高週波電漿（Radio Frequency Generated Plasma）及直流電弧電漿（DC Arc-Generated Plasma）兩大類。前者係利用高週波電磁場反覆加速電子撞擊中性原子或分子，而產生能量；後者則是藉離子撞擊陰電極產生二次電子提供能量。

目前用於廢棄物處理的商用技術，大部分是以直流電弧電漿作為熱源。直流電弧電漿通常是由電漿火炬所產生，基本上是利用火炬中噴出的氣體使兩電極間的放電效應穩定化而形成高溫的等離子化氣體場。而就電弧產生的方式以及兩個電極位置的不同，電漿火炬又可區分為傳輸式與非傳輸式兩種。

傳輸式（transferred）火炬中只有一個電極，另一個電極就是被處理物或其底部的電極，因此，電漿的生成是從火炬中的電極一直延伸至被處理物；這種火炬氣體流速較低、火炬能量密度高。

非傳輸式（non-transferred）電漿火炬則是兩個電極都位於火炬內，電漿只在火炬中產生，電漿的起始與終點皆在火炬內的兩極上；因此，為了處理被處理物，火炬中必須有高壓氣體將電漿吹出火炬之外，以提供高溫氣體將被處理物加熱。

 

非傳輸型電漿火炬

來源：曾錦清博士等